Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 1:Measured height data array using a curvature metric（ZDD）
国家标准 推荐性 现行
国家标准《半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD）》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。
主要起草单位山东有研半导体材料有限公司、浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司、金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司、中环领先半导体材料有限公司、广东天域半导体股份有限公司、鸿星科技（集团）股份有限公司。
主要起草人王玥 、朱晓彤 、孙燕 、宁永铎 、徐新华 、徐国科 、李春阳 、张海英 、陈海婷 、丁雄杰 、郭正江 。
山东有研半导体材料有限公司
金瑞泓微电子（嘉兴）有限公司
广东天域半导体股份有限公司
浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司
中环领先半导体材料有限公司
鸿星科技（集团）股份有限公司
王玥
朱晓彤
徐新华
徐国科
陈海婷
丁雄杰
孙燕
宁永铎
李春阳
张海英
郭正江
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