Collection of metallographs on defects in silicon carbide crystal materials
国家标准 推荐性 现行
国家标准《碳化硅晶体材料缺陷图谱》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准委。
主要起草单位广东天域半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟、山东天岳先进科技股份有限公司、河北同光半导体股份有限公司、北京大学东莞光电研究院、山西烁科晶体有限公司、河北普兴电子科技股份有限公司、北京天科合达半导体股份有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、中国科学院半导体研究所、湖州东尼半导体科技有限公司、中国电子科技集团公司第四十六研究所、中电化合物半导体有限公司、南京国盛电子有限公司、哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、江苏卓远半导体有限公司。
主要起草人丁雄杰 、刘薇 、韩景瑞 、贺东江 、李素青 、丁晓民 、张红 、李焕婷 、张红岩 、杨昆 、李斌 、尹浩田 、高伟 、路亚娟 、佘宗静 、王阳 、钮应喜 、晏阳 、姚康 、金向军 、吴殿瑞 、李国鹏 、张新峰 、赵丽丽 、张胜涛 、夏秋良 、李国平 。
广东天域半导体股份有限公司
北京第三代半导体产业技术创新战略联盟
河北同光半导体股份有限公司
山西烁科晶体有限公司
北京天科合达半导体股份有限公司
中国科学院半导体研究所
中国电子科技集团公司第四十六研究所
南京国盛电子有限公司
新美光(苏州)半导体科技有限公司
有色金属技术经济研究院有限责任公司
山东天岳先进科技股份有限公司
北京大学东莞光电研究院
河北普兴电子科技股份有限公司
中国电子科技集团公司第十三研究所
湖州东尼半导体科技有限公司
中电化合物半导体有限公司
哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司
江苏卓远半导体有限公司
丁雄杰
刘薇
李素青
丁晓民
张红岩
杨昆
高伟
路亚娟
钮应喜
晏阳
吴殿瑞
李国鹏
张胜涛
夏秋良
韩景瑞
贺东江
张红
李焕婷
李斌
尹浩田
佘宗静
王阳
姚康
金向军
张新峰
赵丽丽
李国平
GB/T 8756-2018 锗晶体缺陷图谱
GB/T 35316-2017 蓝宝石晶体缺陷图谱
GB/T 30453-2013 硅材料原生缺陷图谱
GB/T 18000-1999 木材缺陷图谱
YS/T 1465-2021 钛及钛合金加工产品外观缺陷术语及图谱
CB/T 3409-1991 舰船材料金相图谱
JB/T 8753-1998 电触头材料金相图谱
GB/T 42902-2023 碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法
GB/T 43493.1-2023 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第1部分:缺陷分类
20232362-T-469 含碳、碳化硅、氮化物耐火材料化学分析方法
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微析研究所总部位于北京,拥有数家国内检测、检验(监理)、认证、研发机构,1家欧洲(荷兰)检验、检测、认证机构,以及19家国内分支机构。微析研究所拥有35000+平方米检测实验室,超过2000人的技术服务团队。
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微析研究所是先进材料科学、环境环保、生物医药研发及CMC药学研究、一般消费品质量服务、化妆品研究服务、工业品服务和工程质量保证服务的全球检验检测认证 (TIC)服务提供者。微析研究所提供超过25万种分析方法的组合,为客户实现产品或组织的安全性、合规性、适用性以及持续性的综合检测评价服务。微析研究所用精准及时的结果、高质量的创新服务和专业的技术经验,为客户打造独特的分析解决方案和广泛适用的质量保证方法。
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