Direct writing imaging exposure equipment
国家标准 推荐性 现行
国家标准《直写成像式曝光设备》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,主管部门为国家标准委。
主要起草单位合肥芯碁微电子装备股份有限公司、广州兴森快捷电路科技有限公司、安徽省工业和信息化研究院、深南电路股份有限公司、四创电子股份有限公司、中国电子技术标准化研究院、合肥矽迈微电子科技有限公司、深圳市克洛诺斯科技有限公司、深圳拜波赫技术有限公司。
主要起草人何少锋 、陈新 、邱醒亚 、乔书晓 、沈桂珍 、朱颖 、陈黎阳 、方林 、曲鲁杰 、许静平 、陈东 、崔良端 、陆培良 、吴怡然 、曹可慰 、赵俊莎 、李香滨 、严孝年 、鲁男 、李娜 、李照辉 、吴新民 。
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
安徽省工业和信息化研究院
四创电子股份有限公司
合肥矽迈微电子科技有限公司
深圳拜波赫技术有限公司
广州兴森快捷电路科技有限公司
深南电路股份有限公司
中国电子技术标准化研究院
深圳市克洛诺斯科技有限公司
何少锋
陈新
沈桂珍
朱颖
曲鲁杰
许静平
陆培良
吴怡然
李香滨
严孝年
李照辉
吴新民
邱醒亚
乔书晓
陈黎阳
方林
陈东
崔良端
曹可慰
赵俊莎
鲁男
李娜
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